Se presentó una nueva demanda ambiental contra el complejo de producción planeado por Micron en Nueva York. La denuncia alega que los permisos de aguas residuales y aire aprobados son insuficientes y permitirán que los 'químicos eternos' se filtren al río Oneida. La denuncia afirma que los permisos no son 'aprobaciones de operación rutinaria' y que las directrices flexibles de los permisos no son 'errores o deficiencias técnicas'.
La denuncia señala que el permiso de aguas residuales de Micron permite la aceptación y el monitoreo de aguas residuales industriales que contienen nuevos contaminantes como PFAS, pero no establece controles significativos para estos contaminantes nocivos. Los PFAS son químicos sintéticos esenciales en la producción de semiconductores que requieren un estricto control del agua y el aire para cumplir con las regulaciones ambientales.
Los demandantes piden la anulación de los permisos de aguas residuales y aire y que Micron sea sometido nuevamente al proceso de revisión ambiental. Una demanda anterior alegó que el proyecto de Micron no cumplía con el proceso de revisión ambiental del estado. Micron declaró que aún no se ha fijado una fecha para este litigio.