中国は国産の深紫外線（DUV）リソグラフィ装置の量産を開始した。上海を拠点とする企業が、SMIC、華虹半導体、長芯存儲に今年中に初期機材を納入する予定だ。2026年までに5台、2027年には約20台の生産を目指している。これら3社は米国議会で進む法案により、ASMLからの販売とサービスが法的に制限されるリストに含まれている。

生産に使用されるシステムの大部分は国産部品で構成されているが、一部の重要な部品は依然として日本から調達されている。国内サプライヤーの遅延により今年の生産に影響が出ている。米国下院の8170号決議は、SMIC、華虹、CXMT、華為、YMTCを法的に制限された資産として定義しており、このうち3社が国産スキャン装置の最初の顧客として選定されている。

ASMLは2026年までに約130台のリソグラフィシステムを出荷する計画で、2027年には生産能力を30%増加させることを目指している。中国はASMLの今年の純売上高の約20%を占める。国産DUVリソグラフィ装置が生産ラインで認定されるには数ヶ月かかる可能性があり、パフォーマンスと製造品質の面でASMLのツールに後れを取っている。中国の国産EUVの取り組みはまだ数年先の話だ。