El director general de ASML, Christophe Fouquet, advirtió que la presión ejercida por Estados Unidos y sus aliados sobre China podría resultar en un aumento de la competencia industrial. China busca desafiar el monopolio de ASML desarrollando sus propias máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV) para lograr la independencia tecnológica.
Recordando los intentos fallidos de las empresas japonesas Canon y Nikon por desarrollar esta tecnología en la última década, se subraya que la posición de ASML no es solo una ventaja tecnológica, sino también un factor geopolítico.
Entre las declaraciones que señalan el uso de ASML como herramienta de presión por parte de la UE, figura la información de que los proyectos de máquinas híbridas de China basados en fuentes LDP y LPP tienen previsto entrar en producción antes de 2030.