Samsung anunció que comenzará a utilizar las máquinas de litografía EUV de alta NA de ASML para producir chips de 1 nanómetro en 2030. El vicepresidente de tecnología de Samsung, ChangMin Park, indicó que se decidió posponer el uso de estas máquinas en los niveles de 2 y 1,4 nanómetros.
Las máquinas EUV de alta NA reducen la longitud de onda de la luz necesaria para obtener tamaños de circuito más pequeños, lo que permite la impresión con una sola plantilla. Sin embargo, el hecho de que esta tecnología aún no esté completamente desarrollada ha retrasado su uso en niveles más pequeños.
Samsung cree que estas máquinas serán esenciales para la producción de chips de 1 nanómetro y menores. No obstante, el alto costo y la complejidad de esta tecnología podrían afectar el proceso de producción.