Nvidia CEO'su Jensen Huang, The All-In Podcast'ta yaptığı açıklamada Çin'in yüksek hacimli üretim yeteneğine atıfta bulunarak, ülkenin 2030'a kadar kendi ileri litografi araçlarını elde edeceğini ve bu sürecin 'sadece zaman meselesi' olduğunu savundu.

Huang, Çin'in yapay zeka alanındaki hızla paralellik çizerek bu tahminde bulunduğunu belirtti.

Mevcut durumda Çin'in önde gelen litografi üreticisi SMEE, 90nm sürec teknolojisi için 193-nm ArF kuru tarayıcıları seri üretmekte; 28nm yetenekli ArF batma tarayıcılarının da geliştirildiği bildirilse de, bunların yüksek hacimli çip üretiminde kullanıldığına dair kamusal kanıt yok.