Samsung, 1 nanometre çipleri üretmek için ASML'nin yüksek NA EUV litografi makinelerini kullanmaya 2030'da başlayacağını açıkladı. Samsung'un teknoloji başkan yardımcısı ChangMin Park, bu makinelerin 2 ve 1.4 nanometre düzeylerinde kullanımının ertelenmesine karar verildiğini belirtti.

Yüksek NA EUV makineleri, daha küçük devre boyutları elde etmek için gereken ışık dalga boyunu azaltır ve bu sayede tek bir kalıpla baskı yapma imkanı sağlar. Ancak, bu teknolojinin henüz tam olarak geliştirilmemiş olması, Samsung'un daha küçük düzeylerdeki kullanımını geciktirdi.

Samsung, bu makinelerin 1 nanometre ve daha küçük düzeylerdeki çiplerin üretiminde zorunlu olacağını düşünüyor. Ancak, bu teknolojinin yüksek maliyeti ve karmaşıklığı, üretim sürecini etkileyebilir.