Samsung Foundry, 2026'da düzenlenen Next-Generation Lithography + Patterning Konferansı'nda güncellenmiş üretim teknolojileri yol haritasını açıkladı. Şirket, 1.4nm düğümünü 2029'a erteleyerek 2nm düğümlerini geliştirmeye odaklanacak ve 2030'dan itibaren yüksek NA EUV litografisi ile 1nm ve altı düğümleri destekleyecek. Bu stratejik değişiklik, Samsung'un 2nm düğümlerini daha verimli ve ticari olarak rekabetçi hale getirmek için kaynaklarını yeniden dağıttığını gösteriyor.

Samsung'un 1.4nm düğümünü 2027'den 2029'a ertelemesi, şirketin liderlik konumunu yavaşlatma kararı olarak yorumlanabilir. Bu karar, Samsung'un Tesla ile imzaladığı uzun vadeli anlaşma kapsamında AI5 ve AI6 işlemcilerini 2033'e kadar tedarik etme taahhüdüyle de ilişkilendirilebilir. Ayrıca, Samsung'un EUV fotomaskleri için pellikulleri benimseme planı, üretim süreçlerini yeniden gözden geçirmesine neden olabilir.

Samsung'un 1nm düğümünün, SF1.4+ adında bir versiyonla birlikte var olacağı belirtiliyor. Bu yaklaşım, şirketin hem yenilikçi 1nm düğümünü yüksek NA EUV litografisi ile kullanmayı hem de kanıtlanmış düşük NA EUV akışları ve malzemelere dayanan bir teknolojiyle devam etmeyi planladığını gösteriyor.