Samsung Foundryは、Next-Generation Lithography + Patterning Conference 2026で更新された製造技術ロードマップを発表した。同社は1.4nmノードを2029年に延期し、2nmノードの開発に集中する。2030年からは高NA EUVリトグラフィーで1nm以下のノードをサポートする予定だ。この戦略的変更は、Samsungが2nmノードをより効率的で商業的に競争力のあるものにするためにリソースを再配分していることを示している。

Samsungが1.4nmノードを2027年から2029年に延期したことは、同社のリーダーシップポジションを遅らせる決定と解釈される。この決定は、SamsungがTeslaと締結した長期契約の一環として、AI5およびAI6プロセッサを2033年まで供給するという約束とも関連している。さらに、SamsungのEUVフォトマスク用ペリクル採用計画は、生産プロセスの再評価を促す可能性がある。

Samsungの1nmノードは、SF1.4+というバージョンと共に存在することが示されている。このアプローチは、同社が高NA EUVリトグラフィーを使用した革新的な1nmノードを採用するだけでなく、実績のある低NA EUVフローと材料に基づく技術を継続する計画であることを示している。