La neerlandesa ASML y su socio óptico alemán Zeiss están investigando una tecnología litográfica de próxima generación denominada Hyper-NA para ir más allá de los actuales sistemas High-NA EUV. El enfoque, presentado en un estudio científico revisado por pares y reportado por Reuters el 8 de octubre, busca elevar la apertura numérica (NA) de 0,55 a al menos 0,75 y reducir la resolución de half-pitch de unos 8 nanómetros a 5 nanómetros. ASML aún no ha decidido producir comercialmente estas máquinas; al estar la investigación en una fase inicial, se estima que su llegada al mercado podría tardar aproximadamente diez años.