Hollandalı ASML ve Alman optik ortağı Zeiss, mevcut High-NA EUV sistemlerinin ötesine geçmek için Hyper-NA adlı bir sonraki nesil litografi teknolojisini araştırıyor. 8 Ekim'de Reuters'in de haberdar ettiği, hakemli bir bilimsel çalışmada sunulan bu yaklaşım, sayısal açıklığı (NA) 0,55'ten en az 0,75'e çıkarıp half-pitch çözünürlüğünü yaklaşık 8 nanometreden 5 nanometreye indirmeyi hedefliyor. ASML henüz bu makineleri ticari olarak üretmeye kararlı değil; geliştirme çalışmaları yeni başladığı için piyasaya sürülme takvimi yaklaşık on yıl sonrası olarak kestiriliyor.