Jensen Huang, durante su intervención en el podcast All-In, hizo referencia a la creciente capacidad de producción de China y sostuvo que el país obtendrá sus propias herramientas de litografía avanzada para 2030, considerándolo solo una cuestión de tiempo.
Huang basó esta predicción en el rápido progreso de China en el campo de la inteligencia artificial.
Actualmente, el principal fabricante de litografía de China, SMEE, está produciendo litógrafos de secado de 193 nm para el proceso de 90 nm; aunque se ha informado del desarrollo de litógrafos ArF de inmersión de 28 nm, no existen pruebas públicas de que se utilicen en la producción masiva de chips.