La neerlandesa ASML comercializó la litografía ultravioleta extrema (EUV) en 1997 tras dos décadas de desarrollo, gracias a los avanzados espejos multicapa de Zeiss.
Estas máquinas emplean luz con una longitud de onda de 13,5 nm para transferir patrones a obleas de silicio con un grosor aproximado de una 7000ava parte del cabello humano; según la fuente, esta precisión sería suficiente para escribir la totalidad de 'El Señor de los Anillos' en el borde de una hoja de papel.
La tecnología se utiliza actualmente en la fabricación de chips más avanzada de TSMC, Intel, Samsung, SK hynix y Micron.