Hollandalı ASML, iki on yıl süren geliştirme sürecinin ardından 1997'de Zeiss'in gelişmiş çok katmanlı aynaları sayesinde ultravioleta uç (UVE) fotolitografisini ticari hale getirmiştir.
Bu makineler 13,5 nm dalga boyundaki ışığı kullanarak, insan saçının yaklaşık 7000'te bir kalınlığında desenleri silisium oblealarına aktarır; kaynak metne göre bu hassasiyet 'Yüzüklerin Efendisi' nin tamamının bir kağıdın kenarına yazılmasına yetecek derecededir.
Teknoloji şu an TSMC, Intel, Samsung, SK hynix ve Micron'un en ileri çip üretiminde kullanılıyor.