Una empresa con apoyo estatal en Shanghái comenzó a producir máquinas de litografía de ultravioleta extremo por inmersión (DUV). Se planea entregar cinco sistemas este año y aproximadamente veinte para 2027. Las primeras máquinas se utilizarán en las fábricas de SMIC, Hua Hong y ChangXin Memory Technologies.
Los analistas destacan que la capacidad de estas máquinas para mantener una producción de chips de alto volumen las 24 horas sin interrupciones es clave para el éxito comercial. Paul Triolo señala que es muy difícil operar la litografía DUV por inmersión sin problemas durante todo el año. Según Bank of America, China importó equipos de semiconductores por valor de 226 millones de dólares en la región de Anhui en marzo de 2024, de los cuales el 57% eran sistemas de litografía.
La propuesta de la Ley MATCH de EE.UU. busca endurecer la venta y el servicio de sistemas DUV por inmersión en países rivales estratégicos; aún no ha sido aprobada. Si la ley entra en vigor, la retirada de los ingenieros de ASML de los proyectos en China podría acelerar el desarrollo de equipos locales. China aún no tiene acceso a los sistemas de litografía EUV más avanzados, por lo que la DUV por inmersión sigue siendo la tecnología más avanzada disponible.