MITの研究者たちは、NY CreatesのAlbany NanoTech Complexのエンジニアたちと協力し、300ミリメートルウェーハスケールで機械的に柔軟かつ光学的に透明なシリコンフォトニックチップを生産するプロセスを開発した。チップはわずか数ミクロンの厚さで、性能低下なしに小さなネジ径のシリンダーの周りで数千回曲げられる。
MIT、300 mmウェーハスケールで柔軟かつ透明なシリコンフォトニックチップを開発
MITの研究者たちが、標準的な半導体工場ツールで製造される300 mmウェーハ上で、機械的に柔軟かつ光学的に透明なシリコンフォトニックチップを得た。
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