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Samsung Foundry、2029年に1.4nmノードを発表 2030年から高NA EUVで1nm以下ノードをサポート

Samsung Foundryは、Next-Generation Lithography + Patterning Conference 2026で更新された製造技術ロードマップを発表した。同社は1.4nmノードを2029年に延期し、2nmノードの開発に集中する。2030年からは高NA EUVリトグラフィーで1nm以下のノードをサポートする予定だ。

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